Osterrieth, Patentrecht

Art.Nr.: C.H.Beck ISBN 978-3-406-81873-8

Einzeldarstellung
7., überarbeitete Auflage. 2025
Buch, Umfang: XXIII, 338 S.
Format: 16,0 x 24,0 cm
Das Werk ist Teil der Reihe:  NJW Praxis; Band 75
C. H. Beck ISBN 978-3-406-81873-8

Erschienen: 2025

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Patentrecht in der Praxis

Vorteile auf einen Blick 

• mit dem EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht 
• inklusive internationalem Rechtsschutz 
• mit der Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des Gewerblichen Rechtsschutzes

Diese bewährte Einführung 
stellt das Patent- und Gebrauchsmusterrecht mit den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar. Der Band behandelt u.a. auch: 

•     Grundzüge des internationalen Patentrechts und Europäischen Patentsystems 
•     Gegenstand, Voraussetzungen und Wirkung des Patentschutzes 
•     Patentverletzungsprozess 
•     Patentstreitverfahren vor dem Einheitlichen Patentgericht (EPG/UPC) 
•     Arbeitnehmerfindungsrecht 
•     Gebrauchsmusterrecht 

Der Anhang enthält u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften einschließlich Merkmalsanalyse.

Die 7. Auflage 
berücksichtigt u.a. die Einrichtung des Einheitlichen Patentgerichts für die Mitgliedstaaten der Europäischen Union (EPG/ UPC). Darüber hinaus wurde das Werk insgesamt auf den aktuellen Stand in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur gebracht.


Autoren
Von Prof. Dr. Christian Osterrieth, Rechtsanwalt





 

Preis:

99,00 EUR

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